美國easyXAFS公司推出的x射線近邊吸收譜（XAFS/XES），采用*的X射線單色器設計，無需同步輻射光源，在常規實驗室環境中實現X射線吸收精細結構測量和分析，提供XAFS和XES兩種測量模式，并輕松相互切換。以極高的靈敏度和光源質量，廣泛應用在催化、電池等研究領域，實現對元素的測定、定量和價態分析等。

美國easyXAFS公司推出的X射線吸收精細結構譜（XAFS/XES），采用*的X射線單色器設計，無需同步輻射光源，在常規實驗室環境中實現X射線吸收精細結構測量和分析，提供XAFS和XES兩種測量模式，并輕松相互切換。以極高的靈敏度和光源質量，廣泛應用在催化、電池等研究領域，實現對元素的測定、定量和價態分析等。

致真精密儀器（青島）有限公司生產的多功能高分辨率磁光克爾顯微成像系統，以自主設計的光路結構及奧林巴斯、索萊博光電元件為基礎制造，適用于磁性材料/ 自旋電子器件的磁疇成像和動力學研究。

聚合物薄膜厚度方向熱電性能評價系統-ZEM-d主要測量聚合物薄膜厚度方向上的塞貝克系數和電阻率，可以測量的樣品薄為10μm。

日本Advance Riko公司推出的納米薄膜熱導率測試系統-TCN-2ω是使用2ω方法測量納米薄膜厚度方向熱導率的商用系統。與其他方法相比，樣品制備和測量極為簡單。